주요취급특수가스
HP/Giga Gas
O₂, N₂, Ar, H₂, CO, CO₂
Rare Gas
He, Ne, Kr, Xe
Semiconductor Process
- Silicon Source
SiH₄, SiH₂Cl₂, SiHCl₃
- Dopant Gas
AsH₃, PH₃, B₂H6
- Echant Gas
CF₄, C₂F6, CHF₃, NF₃, HF, SF6, BCI₃
- Reactant
NH₃, N₂O, HCL, WF6, HBr
Others
D₂, Lasal
Mixture
- Standard Gas
- Forming Gas
- Eximer Laser
특수가스 제조 공정표
1. Cylinder 내면처리 / Heating / Purge
2. 특수가스 제조 / 혼합가스 Blending
3. Analysis
4. 성적서 발행
5. 제품출하